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            真空鍍膜技術及其特點

            時間:2017-05-26 15:15來源:www.bestmartz.com 作者:德耐爾空壓機
            真空鍍膜技術及其特點 在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(或濺射),使其沉積在被涂覆的物體(稱基片、基板或者基體)上的方法稱為真空鍍膜法。 在材料的表面上,鍍上一層薄膜,就能使該種材料具有很多新的物理和化學性能。過去在物體表面上鍍膜作為物

             真空鍍膜技術及其特點

            1、在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(或濺射),使其沉積在被涂覆的物體(稱基片、基板或者基體)上的方法稱為真空鍍膜法。

            在材料的表面上,鍍上一層薄膜,就能使該種材料具有很多新的物理和化學性能。過去在物體表面上鍍膜作為物體表面改性的一種方法,多采用濕度鍍膜法,即電鍍法和化學鍍法。電鍍法中被電解的離子鍍到作為電解液另一個電極的基本表面上。故此,這種鍍膜的基體應是良導體,而且膜層厚度難于控制;化學鍍法是應用化學還原原理,使鍍膜材料溶液迅速參加還原反應,沉積在基體上。這兩種方法不但膜的附著強度差,膜層厚度不勻,而且還會產生大量的廢液而造成公害。因此它們在薄膜制備工藝上受到了很大的限制。

            2、真空鍍膜法是一種新的鍍膜工藝,由于薄膜制備工藝是在真空條件下進行的,故稱真空鍍膜法。亦稱干式鍍膜法。它與濕式鍍膜法相比較具有以下特點:

            ●真空下制備薄膜,環境清潔,膜不易受污染,可獲得致密性好、純度高、膜度均勻的涂層。

            ●膜材和基體材料有廣泛的選擇性,薄膜厚度可進行控制,可以制備各種不同的功能性薄膜。

            ●膜與基體附著強度好,膜層牢固。

            ●不產生廢液,避免對環境的污染。

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            作者:德耐爾@德耐爾空壓機  空壓機修訂日期:2017-05-26
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